半导体硅片清洗体系
- 硅片超声清洗、晶圆蚀刻后清洗、光刻胶剥离清洗、硅片颗粒去除清洗、晶圆喷淋清洗
硅片清洗消泡剂
Silicon Wafer Cleaning Defoamer产品型号：B-3455
硅片清洗消泡剂产品说明
*以下为典型数据，非产品规格
- 外观
- 乳白色液体/无色透明液体/半透明液体
- PH值
- 5~8
- 水溶性
- 溶于水
- 最小起订量 ：
- 按需定制
- 供货周期 ：
- 现货1-3天;定制5-7天
产品概述
OVERVIEW中科鸿泰工厂研发生产硅片清洗消泡剂，专为硅片切削、磨削及清洗工艺设计。耐高温、耐酸碱，相容性好，不残留、不影响硅片质量，适用于半导体、光伏、线路板等精密清洗场景。点击咨询免费送样品！
应用领域
APPLICATION SCOPE精密电子清洗体系
- 光学晶片清洗、PCB 精密清洗、电子元器件湿法清洗、精密清洗污水泡沫控制
产品特点
MAIN FEATURES- 消泡快、抑泡力强，用量少，化学性质稳定。
- 耐高温、耐酸碱、兼容性好。
- 相容性好，不会分层、不残留
使用方法
USAGE硅片清洗消泡剂可直接滴加或稀释后使用。添加量按产品总量的0.001%～0.01%；本品如稀释需立即使用，开稀倍数可以是1～10倍，稀释剂是：自来水；如稀释后需长期保存，必须添加稳定剂，必要时与本公司联系。
储存与包装
STORAGE AND PACKAGING- 包装：本品采用25KG、50KG、200KG、1000KG塑料桶装。
- 储存：本品不属危险品，无毒，不可燃，密封存放于室内阴凉、通风、干燥处。未使用完前，每次使用后容器应严格密封。25℃左右保质期12个月。
- 运输：本品运输中要密封好，防潮、防强碱强酸及防雨水等杂质混入。
常见问题
FAQ硅片清洗消泡剂会不会引入金属离子污染硅片？
硅片清洗消泡剂采用低离子配方，适配硅片精密清洗工艺，高要求制程工艺建议提前做杂质验证。
使用硅片清洗消泡剂会不会造成硅片表面出现水印或者有机残留？
硅片清洗消泡剂按工艺正常使用，挥发性与清洗性能良好，不易在硅片表面产生有机残留，保障晶圆洁净度。
硅片清洗消泡剂在超声清洗工艺中消泡性能稳定吗？
硅片清洗消泡剂耐超声强扰动，适配常规硅片超声清洗工艺，严苛制程工艺建议预先开展小样测试。
